[发明专利]用于防散热工质泄漏及芯片导线穿越的微通道流体散热器有效

专利信息
申请号: 201610034123.6 申请日: 2016-01-19
公开(公告)号: CN105679721B 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 杨达伟;王艳;丁桂甫;赵军红 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/473
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 徐红银;郭国中
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种用于防散热工质泄漏及芯片导线穿越的微通道流体散热器,包括硅基底部分、金属流道结构部分以及散热工质部分,其中:在硅基底部分上表面制作有硅基芯片、在硅基底部分背部制作有硅基通孔和凸起结构,在金属流道结构部分上制作有金属通孔、凹槽结构、金属导热柱、工质出入口;凸起结构内嵌于凹槽结构并键合形成闭合流道腔体;散热工质部分置于该闭合流道腔体;工质出入口设置于金属流道结构部分前后两端外壁内侧中心位置;金属导热柱与硅基芯片背部接触,用于传导硅基芯片的热量。本发明解决微通道流体散热工质泄漏问题、芯片背引线困难,同时工艺简单,散热效果优良,与硅基芯片的加工工艺匹配,解决大功率芯片的散热问题。
搜索关键词: 用于 散热 工质 泄漏 芯片 导线 穿越 通道 流体 散热器
【主权项】:
1.一种用于防散热工质泄漏及芯片导线穿越的微通道流体散热器,其特征在于,包括:硅基底、金属流道结构以及散热工质,其中:在硅基底上表面制作有硅基芯片,在硅基底的背部制作有“回”字形凸起结构和包含环形凸起结构的硅基通孔;在金属流道结构上制作有“回”字形凹槽结构、包含环形凹槽结构的金属通孔、金属导热柱、工质入口以及工质出口;“回”字形凸起结构内嵌于“回”字形凹槽结构,并通过键合工艺形成闭合的流道腔体;散热工质置于闭合的流道腔体内;工质入口和工质出口分别设置于金属流道结构的两端外壁内侧中心位置;包含环形凸起结构的硅基通孔与包含环形凹槽结构的金属通孔嵌套,用于引出硅基芯片的工作导线;金属导热柱与硅基芯片的背部直接接触,硅基芯片工作时产生的热量通过金属导热柱以及流经金属流道结构的散热工质带出,以保证工作温度的恒定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学,未经上海交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610034123.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top