[发明专利]深紫外LED及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201580073117.5 申请日: 2015-07-29
公开(公告)号: CN107210336B 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 鹿岛行雄;松浦惠里子;小久保光典;田代贵晴;大川贵史;平山秀树;前田哲利;定昌史;上村隆一郎;长田大和;岛谷聪 申请(专利权)人: 丸文株式会社;东芝机械株式会社;国立研究开发法人理化学研究所;株式会社爱发科;东京应化工业株式会社
主分类号: H01L33/10 分类号: H01L33/10;H01L33/22;H01L33/32
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;霍玉娟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种深紫外LED,其设计波长设为λ,其特征在于,从基板的相反侧按顺序具有Al反射电极层、极薄膜金属层以及透明p型AlGaN接触层,在所述透明p型AlGaN接触层的厚度方向的范围内具有光子晶体周期结构,并且,所述光子晶体周期结构具有光子带隙。
搜索关键词: 深紫 led 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种深紫外LED,其设计波长设为λ,所述深紫外LED的特征在于,从生长基板的相反侧按顺序具有反射电极层、薄膜金属层以及透明p型AlGaN接触层,具有在所述透明p型AlGaN接触层的厚度方向的范围内设置的、具有多个空孔的第一反射型光子晶体周期结构,并且,所述第一反射型光子晶体周期结构具有相对于TE偏振光分量打开的光子带隙,设计波长λ、所述第一反射型光子晶体周期结构的周期a以及平均折射率nav满足布拉格条件式m×λ/nav=2a,并且,布拉格条件的次数m处于2<m<5的范围,并且,将所述空孔的半径设为R时,若将光子带隙达到最大时为R/a、且将所述空孔的深度设为h,则满足h≥2/3a。
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