[发明专利]上层膜形成用组合物以及使用了其的抗蚀图案形成方法有效
| 申请号： | 201580025513.0 | 申请日： | 2015-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN106462073B | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | 铃木理人;王晓伟;冈安哲雄;滨祐介;G·帕夫洛夫斯基 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料(卢森堡)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 11216 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) | 代理人： | 刘淼<国际申请>=PCT/JP2015/ |
| 地址： | 卢森堡(L-1*** | 国省代码： | 卢森堡;LU |
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| 摘要： | 本发明提供一种上层膜形成用组合物与使用了其的图案形成方法，所述上层膜形成用组合物在基于极紫外线曝光的图案形成方法中，可形成粗糙度和/或图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物、以及将该组合物涂布于抗蚀层表面，通过曝光显影从而形成图案的方法，所述上层膜形成用组合物的特征在于，包含具有芳香族性羟基的芳香族化合物以及水性溶剂。该组合物也可进一步包含粘合剂。 | ||
| 搜索关键词： | 上层 形成 组合 以及 使用 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种上层膜形成用组合物，其特征在于，其是用于形成在抗蚀膜之上形成的上层膜的上层膜形成用组合物，包含具有芳香族性羟基的分子量为180～800的芳香族化合物以及水性溶剂，/n其中，所述芳香族化合物由下述通式(1)表示：/n
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