[发明专利]用于微蚀刻铜和铜合金的组合物及方法

摘要

本发明涉及一种用于微蚀刻铜或铜合金表面的组合物，其中该组合物包含i)至少一种Fe³⁺离子源，ii)至少一种Br^‑离子源，iii)至少一种无机酸，及iv)至少一种根据式(I)的蚀刻精制剂　式(I)其中R1选自氢、C₁‑C₅烷基或取代的芳基或烷芳基基团；R2选自氢、C₁‑C₅烷基或C₁‑C₅烷氧基；R3、R4选自氢和C₁‑C₅烷基；及X^‑是合适的阴离子。此外，本发明涉及一种使用这样的组合物微蚀刻铜或铜合金表面的方法。

主权项

一种用于微蚀刻铜或铜合金表面的组合物，其特征在于所述组合物包含i)至少一种Fe³⁺离子源，ii)至少一种Br^‑离子源，iii)至少一种无机酸，及iv)至少一种根据式I的蚀刻精制剂式I其中R1选自氢、C₁‑C₅烷基或取代的芳基或烷芳基基团；R2选自氢、C₁‑C₅烷基或C₁‑C₅烷氧基；R3、R4选自氢和C₁‑C₅烷基；及X^‑是合适的阴离子。