[发明专利]利用短距离往复运动的材料的空间沉积

摘要

各实施方式涉及通过使基板进行短距离往复运动而执行材料在基板上的沉积。用于将材料注入到基板上的一系列反应器以重复的方式沿着基板的长度设置。在每次往复运动期间，基座移动的距离比基板的总长度短。基板的部分通过反应器的子组注入材料。由于基板的运动较小，因此包括基座的线性沉积装置可以制造得较小。

主权项

一种将层沉积在基板上的方法，包括：(a)在通过反应器注入气体期间，使基板与所述反应器之间沿第一方向相对运动第一距离，所述第一距离比所述基板的长度短；(b)在通过所述反应器注入所述气体期间，使所述基板与所述反应器之间沿与所述第一方向相反的第二方向相对运动第二距离，所述第二距离比所述第一距离短；(c)将(a)和(b)重复第一预定次数；(d)在通过所述反应器注入所述气体期间，使所述基板与所述反应器之间沿所述第一方向相对运动第三距离，所述第三距离比所述基板的长度短；(e)在通过所述反应器注入所述气体期间，使所述基板与所述反应器之间沿所述第二方向相对运动第四距离，所述第四距离比所述第三距离长。