[发明专利]具有加强偏移容差的反应器细丝组件有效

专利信息
申请号: 201580005918.8 申请日: 2015-01-28
公开(公告)号: CN105934534B 公开(公告)日: 2020-03-13
发明(设计)人: A·D·罗兹;K·H·巴伦杰 申请(专利权)人: GTAT公司
主分类号: C23C16/00 分类号: C23C16/00;C23C16/44
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 刘淼;严政
地址: 美国新罕*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了一种用于CVD硅沉积反应器的管状细丝组件,其通过在管状细丝的顶部和/或底部与匹配于桥和/或支撑卡盘的成型部件之间形成的可滑动的连接,提供了竖直管状细丝连贯和低电阻的连接,使得该连接至少对竖直细丝和/或水平连桥的倾斜角度的小变化不敏感。所述成型部件可以并入桥和/或卡盘中或独立的且与桥和/或卡盘匹配。本发明描述了许多不同的实施方式。
搜索关键词: 具有 加强 偏移 反应器 细丝 组件
【主权项】:
一种用于多晶硅的批量生产的CVD反应器,其包括:配置有第一细丝支撑卡盘和第二细丝支撑卡盘的基板;连着所述基板的外壳,以形成沉积室;和细丝组件,其包括:第一管状硅丝,所述第一管状硅丝为竖直定向的,且具有与所述第一细丝支撑卡盘电连接的底端;第二管状硅丝,所述第二管状硅丝为竖直定向的,且具有与所述第二细丝支撑卡盘电连接的底端;配置为与所述第一管状硅丝和第二管状硅丝的顶端电连接的水平连桥;和具有围绕成型部件中心轴的周面的成型部件,所述周面为倾斜的或弯曲的,以致当将所述周面设置于临近所述第一管状硅丝的顶端或底端时,在所述第一管状硅丝的顶端或底端周边形成可滑动的接触区域;当所述成型部件的中心轴和所述第一管状硅丝的中心轴之间的角度变化至最大倾斜角时,所述周面配置为维持至少50%所述接触区域。
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