[实用新型]用于半导体等离子体设备中的水平调整装置有效
申请号: | 201520805580.1 | 申请日: | 2015-10-16 |
公开(公告)号: | CN205081088U | 公开(公告)日: | 2016-03-09 |
发明(设计)人: | 王燚;范川;周仁;刘忆军;吴梦瑶 | 申请(专利权)人: | 沈阳拓荆科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/20 | 分类号: | H01J37/20 |
代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人: | 李绪岩 |
地址: | 110179 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 用于半导体等离子体设备中的水平调整装置,包括三角水冷块和三角支撑座,两者大小和形状相同,并通过锁紧螺母和调整螺栓连接。所述的锁紧螺母和调整螺栓与三角水冷块和三角支撑座接触的面为球面。本实用新型利用调整螺栓带动上方水冷块,进而使加热盘的水平度发生改变,避免了调平误差,锁紧螺母与调整螺栓和支撑座、水冷块的接触面为球面,增大了接触面积,使设备更加稳定,提高了工艺质量和产能。 | ||
搜索关键词: | 用于 半导体 等离子体 设备 中的 水平 调整 装置 | ||
【主权项】:
用于半导体等离子体设备中的水平调整装置,其特征在于:包括三角水冷块和三角支撑座,两者大小和形状相同,并通过锁紧螺母和调整螺栓连接,所述的锁紧螺母和调整螺栓与三角水冷块和三角支撑座接触的面为球面。
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