[实用新型]一种用于生产太阳能电池片的镀膜系统有效
申请号: | 201520373553.1 | 申请日: | 2015-06-02 |
公开(公告)号: | CN204959035U | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
发明(设计)人: | 朱广东;杨玉杰;刘金浩;庄正军;上官泉元 | 申请(专利权)人: | 常州比太科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/40;C23C16/34 |
代理公司: | 中国商标专利事务所有限公司 11234 | 代理人: | 宋义兴 |
地址: | 213164 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于生产太阳能电池片的镀膜系统及镀膜方法,镀膜系统包括:真空等离子镀膜腔室、传输装置、载板、隔挡板、第一喷射装置、第二喷射装置和第三喷射装置。隔挡板将镀膜腔室沿输送系统的传输方向依次分割为氧化铝镀膜区域和氮化硅镀膜区域;第一喷射装置位于氧化铝镀膜区域起始端,用于喷射生成氧化铝层的前质气体;第二喷射装置位于氧化铝镀膜区域内,用于沿垂直朝向载板的方向喷射反应气体;第三喷射装置位于氮化硅镀膜区域内,用于沿垂直朝向载板的方向喷射生成氮化硅层的反应气体。本实用新型的优势在于仅需一个真空反应腔室同时完成两种镀膜,简化了设备和工艺操作步骤,降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 生产 太阳能电池 镀膜 系统 | ||
【主权项】:
一种用于生产太阳能电池片的镀膜系统,其特征在于,包括:镀膜腔室、传输装置、载板、隔挡板、第一喷射装置、第二喷射装置和第三喷射装置、等离子源装置和加热装置;所述载板设于所述传输装置的输送带上,所述传输装置将所述载板从所述镀膜腔室的进口输送至所述镀膜腔室的出口,所述载板用于安装硅片;所述隔挡板将所述镀膜腔室沿所述输送系统的传输方向依次分割为氧化铝镀膜区域和氮化硅镀膜区域,所述隔挡板位于所述输送带上方且所述隔挡板的下边沿与所述输送带的间距使所述传输装置的传输不受阻碍;所述第一喷射装置设于所述镀膜腔室的进口位置处且位于所述氧化铝镀膜区域内,所述第一喷射装置用于喷射生成氧化铝层的前质气体;所述第二喷射装置设于所述镀膜腔室的顶壁且位于所述氧化铝镀膜区域内,所述第二喷射装置用于沿垂直朝向所述载板的运行方向喷射一氧化二氮、二氧化碳、氧气、氮气、惰性气体中的任意一种或多种混合的气体;所述第三喷射装置设于所述镀膜腔室的顶壁且位于所述氮化硅镀膜区域内,所述第三喷射装置用于沿垂直朝向所述载板的运行方向喷射生成氮化硅层的反应气体;所述等离子源装置设于第一喷射装置和第二喷射装置内,其可用不同射频电源并将所述第一喷射装置和所述第二喷射装置的喷射的气体进行激发;所述加热装置设于所述镀膜腔室底部内壁,且所述加热装置对经过的载板进行加热。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的