[实用新型]杂质过滤装置和装有该装置的半导体设备

摘要

本实用新型公开一种杂质过滤装置和装有该装置的半导体设备，属于过滤设备领域，该装置包括可安装在排气管(3)上的存储箱(11)，存储箱的两端设有进入口(12)、排出口(13)；存储箱内设有隔板Ⅰ、隔板Ⅱ，隔板Ⅰ与隔板Ⅱ配合便于气流(10)在存储箱内部流通循环；存储箱外侧靠近排出口的一端设有清理口，清理口可拆卸的安装在存储箱上；排气管内的气流在杂质过滤装置内经隔板Ⅰ、隔板Ⅱ，从排出口流出，杂质沉积在存储箱底部，经清理口排出。从分子泵内流出的未反应气体和杂质流经过滤装置后，杂质沉积在装置底部，可从清理口排出；除杂气体进入干泵内，有效避免了晶片受污染或损坏、设备运行率降低，防止干泵突发性终止运行及设备损坏。

主权项

一种杂质过滤装置，其特征在于，包括可安装在排气管(3)上的存储箱(11)，存储箱(11)的两端分别设有用于联通排气管(3)的进入口(12)、排出口(13)；所述的存储箱(11)内靠近进入口(12)的一端设有沿侧壁由上而下倾斜延长的隔板Ⅰ(9A)，靠近排出口(13)的一端设有由下而上倾斜延长的隔板Ⅱ(9B)，隔板Ⅰ(9A)与隔板Ⅱ(9B)配合便于气流(10)在存储箱(11)内部流通循环；所述的存储箱(11)外侧靠近排出口(13)的一端设有若干用于排出杂质(9C)的清理口(9D)，清理口(9D)采用可拆卸的方式安装在存储箱(11)上；排气管(3)内的气流(10)从进入口(12)流入杂质过滤装置(9)内，依次流经隔板Ⅰ(9A)、隔板Ⅱ(9B)后，从排出口(13)流出，气流(10)流动过程中，杂质(9C)沉积在存储箱(11)底部，经清理口(9D)排出。