[实用新型]杂质过滤装置和装有该装置的半导体设备

权利要求书

1.一种杂质过滤装置，其特征在于，包括可安装在排气管(3)上的存储箱(11)，存储箱(11)的两端分别设有用于联通排气管(3)的进入口(12)、排出口(13)；

所述的存储箱(11)内靠近进入口(12)的一端设有沿侧壁由上而下倾斜延长的隔板Ⅰ(9A)，靠近排出口(13)的一端设有由下而上倾斜延长的隔板Ⅱ(9B)，隔板Ⅰ(9A)与隔板Ⅱ(9B)配合便于气流(10)在存储箱(11)内部流通循环；

所述的存储箱(11)外侧靠近排出口(13)的一端设有若干用于排出杂质(9C)的清理口(9D)，清理口(9D)采用可拆卸的方式安装在存储箱(11)上；

排气管(3)内的气流(10)从进入口(12)流入杂质过滤装置(9)内，依次流经隔板Ⅰ(9A)、隔板Ⅱ(9B)后，从排出口(13)流出，气流(10)流动过程中，杂质(9C)沉积在存储箱(11)底部，经清理口(9D)排出。

2.根据权利要求1所述的一种杂质过滤装置，其特征在于，所述的清理口(9D)为两个，分别设置在隔板Ⅰ(9A)、隔板Ⅱ(9B)的末端下侧，便于流经隔板后沉积的杂质(9C)从清理口(9D)排出。

3.根据权利要求1所述的一种杂质过滤装置，其特征在于，所述的清理口(9D)采用螺纹连接安装在存储箱(11)上。

4.一种装有权利要求1-3任一项所述的杂质过滤装置的半导体设备，其特征在于，包括工艺腔体(1)、安装在工艺腔体(1)上的压力控制器(2)，压力控制器(2)的一端通过排气管(3)依次连接有分子泵(5)、干泵(6)，所述的分子泵(5)两侧的排气管(3)上分别装有用于控制气流速度的主阀门(4)，分子泵(5)与干泵(6)间的排气管(3)上装有控制该段排气管(3)开闭的贯通阀(8)；

所述的分子泵(5)与干泵(6)间的排气管(3)上外接有若干杂质过滤装置(9)，每个过滤装置的两端分别装有控制气流(10)进出过滤装置的关闭阀(7)；

当关闭分子泵(5)与干泵(6)间排气管(3)上的贯通阀(8)，打开杂质过滤装置(9)上的关闭阀(7)时，气流(10)经杂质过滤装置(9)的过滤除杂后流入干泵(6)内。

5.根据权利要求4所述的一种装有杂质过滤装置的半导体设备，其特征在于，所述的分子泵(5)与干泵(6)间的排气管(3)上外接有两个杂质过滤装置(9)。