[发明专利]一种用于适应背面减薄的晶圆金属镀层结构以及工装有效
申请号: | 201511024095.1 | 申请日: | 2015-12-30 |
公开(公告)号: | CN105448669B | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 孙丞;杨国文 | 申请(专利权)人: | 西安立芯光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;G03F1/00;H01L21/687 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 胡乐 |
地址: | 710077 陕西省西安*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提出了一种用于适应背面减薄的晶圆金属镀层结构及其工装(光刻板、晶圆夹具)。该晶圆金属镀层结构,晶圆金属镀层中部设置有若干个用于实现芯片功能且相互隔离的金属区,整体记为芯片有效区,有别于现有技术的是:在所述芯片有效区的外围设置有与其相隔离的金属环带,该金属环带的厚度与所述金属区的厚度相同。晶圆在作业背面减薄工艺时,由于晶圆边缘均存在金属,消除了边缘缝隙,故晶圆边缘受力不均匀的问题得到解决,消除了破裂和弯曲的风险。同时,由边缘缝隙的消除,晶圆边缘的支撑载体和正面完全贴合,也消除了减薄颗粒会进入到晶圆正面的可能,解决了晶圆表面沾污的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 适应 背面 金属 镀层 结构 以及 工装 | ||
【主权项】:
1.一种用于晶圆减薄的组装结构,包括晶圆和支撑载体,晶圆正面粘合在支撑载体表面,晶圆正面具有金属镀层,包括在晶圆正面中部设置的若干个用于实现芯片功能且相互隔离的金属区,整体记为芯片有效区,其特征在于:所述金属镀层还包括在所述芯片有效区的外围设置的与其相隔离的金属环带,该金属环带的厚度与芯片有效区的厚度相同,使得晶圆边缘也与支撑载体相贴合;金属环带通过光刻版版图的设计在所述金属区制备过程中同时形成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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