[发明专利]一种干法刻蚀凸块形貌可控的制备方法

摘要

本发明公开了一种干法刻蚀凸块形貌可控的制备方法，包括以下步骤：在衬底上附着氧化层(oxide)介质膜；在氧化层介质膜上旋涂上光刻胶PR，然后进行曝光，显影；对光刻胶PR进行烘烤，使光刻胶PR形成固定的形貌和厚度；采用RIE干法刻蚀，使用CF4和CHF3气体组合来对介质膜进行刻蚀；保持CF4和CHF3的气体总流量不变，调整CF4和CHF3气体的比例，从而获得一定的oxide和PR的选择比；通过特定oxide和PR的选择比，在介质膜刻蚀过程中，在PR形貌和厚度固定的情况下，逐渐消耗两个肩膀的PR，从而达到介质膜刻蚀呈现正梯形，最终得到底部坡度形貌可控的凸块形状。该方法制备技术简单，制备的凸块形貌可控、重复性良好。

主权项

1.一种干法刻蚀凸块形貌可控的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)在衬底上附着氧化层(oxide)介质膜；(2)在氧化层介质膜上旋涂上光刻胶PR，然后进行曝光，显影；(3)对光刻胶PR进行烘烤，使光刻胶PR形成固定的形貌和厚度；(4)采用RIE干法刻蚀，使用CF4和CHF3气体组合来对介质膜进行刻蚀；(5)保持CF4和CHF3的气体总流量不变，且所述的CF4和CHF3的气体总流量为90sccm，调整CF4和CHF3气体的比例，从而获得一定的氧化层(oxide)介质膜和光刻胶PR的选择比；(6)通过特定氧化层(oxide)介质膜和光刻胶PR的选择比，在介质膜刻蚀过程中，在光刻胶PR形貌和厚度固定的情况下，逐渐消耗两个肩膀的光刻胶PR，从而达到介质膜刻蚀呈现正梯形，最终得到底部坡度形貌可控的凸块形状。