[发明专利]用于高产量处理腔室的工艺套件

摘要

本文公开了一种用于处理基板的处理腔室。在一个实施例中，所述处理腔室包括：衬层组件，所述衬层组件设置在所述处理腔室的内部容积内；以及C形通道，所述C形通道设置在所述腔室的内部容积内，并且包围所述衬层组件。在另一实施例中，本文公开了一种工艺套件，所述工艺套件设置在所述处理腔室的所述内部容积内。所述工艺套件包括设置在所述内部容积内的衬层组件、C形通道和隔离器。所述C形通道和所述隔离器包围所述衬层组件。本文还描述了一种用于通过使前体气体流入处理腔室中以将硅基材料沉积在基板上的方法。

主权项

一种用于处理基板的处理腔室，所述处理腔室包括：腔室体，所述腔室体具有内部容积；盖，所述盖封闭所述内部容积；衬层组件，所述衬层组件设置在所述腔室体的所述内部容积内；以及C形通道，所述C形通道设置在所述腔室体的所述内部容积内，并且包围所述衬层组件，所述C形通道进一步包括：顶部环形部，所述顶部环形部具有穿过所述顶部环形部而形成的多个开口；底部环形部，所述底部环形部面向所述顶部环形部；以及中间环形部，所述中间环形部连接所述顶部环形部和所述底部环形部以形成C形主体，所述顶部环形部、所述底部环形部和所述中间环形部限定泵送区域，所述泵送区域通过穿过所述顶部环形部而形成的所述多个开口流体地耦接至所述内部容积。