[发明专利]带遮挡板的限流环装置与化学气相沉积设备及其调节方法

摘要

本发明提供一种带遮挡板的限流环装置与化学气相沉积设备及其调节方法，在反应腔内将耐热材料制成的遮挡板设置在限流环内侧及托盘外侧之间，通过该遮挡板将限流环内表面的全部或局部进行遮蔽，以阻挡从被加热的托盘射向被冷却的限流环的热辐射，并通过遮挡板、或遮挡板与托盘的组合、或遮挡板与限流环的组合，构成引导化学气相沉积工艺所需工艺气体在反应腔内流通的空间。本发明通过限流环内侧的遮挡板阻挡来自托盘的高温热辐射，抑制反应副产物沉积，降低功耗，并实现对反应腔内的温场及流场的调节，有效改善工艺反应处理效果。

主权项

1.一种带遮挡板的限流环装置，其特征在于，包含：/n限流环，其环绕设置在托盘的外侧，限流环内包括冷却液管道，所述限流环环绕一气体扩散空间和位于所述气体扩散空间下方且贴近托盘上表面的反应空间；/n耐热材料制成的遮挡板，其设置在所述限流环的内侧及托盘的外侧之间，所述遮挡板通过固定装置固定连接到限流环，并且所述遮挡板与其遮蔽的限流环之间存在间隙，所述遮挡板的上表面低于所述限流环的上端面，所述遮挡板环绕所述反应空间，通过该遮挡板将限流环内表面的下部进行遮蔽，以阻挡从托盘到限流环的热辐射，并在所述遮挡板和托盘之间构成引导工艺气体流通的空间，所述引导工艺气体流通的空间形成使反应后气体离开托盘表面的气体流通路径。/n