[发明专利]在多模式脉冲处理中检测处理点的系统和方法

摘要

本发明涉及在多模式脉冲处理中检测处理点的系统和方法。一种识别在多模式脉冲处理中选择的处理点的系统和方法，其包含向等离子体处理室中选择的晶片施加多模式脉冲处理，所述多模式脉冲处理包含多个周期，这些周期中的每一个至少包含多个不同阶段中的一个。在对选择的晶片的多个周期期间，对于选择的至少一个阶段收集至少一个处理输出变量。收集的至少一个处理输出变量的包络和/或模板能够被用于识别选择的处理点。对于先前阶段的收集的处理输出变量的第一轨道能够与选择的阶段的处理输出变量的第二轨道比较。能够计算和使用第二轨道的多变量分析统计以识别选择的处理点。

主权项

1.一种识别多模式脉冲处理中的端点的方法，其包括：向等离子体处理室中的选择的晶片施加多模式脉冲处理，所述多模式脉冲处理包含多个周期，所述多个周期中的每一个包含多个不同阶段；以及在用于所述选择的晶片的所述多个周期期间，针对所述多个阶段中的一个阶段收集至少一个处理输出变量；比较用于跨所述多个周期的阶段的所述至少一个处理输出变量的多个轨道；计算从所述周期的第一周期的所述轨道中的第一轨道上的点到所述周期的第二周期的所述轨道中的第二轨道上的点的距离；以及基于所述距离确定所述多模式脉冲处理的端点是否到达。