[发明专利]COA型阵列基板及其制作方法在审
申请号: | 201510645537.8 | 申请日: | 2015-10-08 |
公开(公告)号: | CN105353570A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 沈嘉文 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种COA型阵列基板及其制作方法,所述COA型阵列基板包括:基板(1)、设于所述基板(1)上的TFT层(2)、设于所述TFF层(2)上的彩色光阻层(3)、及设于所述彩色光阻层(3)上的像素电极(4);所述彩色光阻层(3)包括呈阵列排布的多个品红色光阻块(31)、青色光阻块(32)、黄色光阻块(33)、及透明光阻块(34),能够在不降低对比度的前提下,提升面板的穿透率和亮度,且避免漏光的问题。所述COA型阵列基板的制作方法工艺简单,制得的COA型阵列基板能够提升面板的穿透率和亮度,保持对比度,且避免漏光的问题。 | ||
搜索关键词: | coa 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种COA型阵列基板,其特征在于,包括:基板(1)、设于所述基板(1)上的TFT层(2)、设于所述TFT层(2)上的彩色光阻层(3)、及设于所述彩色光阻层(3)上的像素电极(4);所述基板(1)包括呈阵列排布的数个子像素区域(10),所述彩色光阻层(3)包括对应数个子像素区域(10)的数个色阻块(30),所述数个色阻块(30)包括品红色光阻块(31)、青色光阻块(32)、黄色光阻块(33)、及透明光阻块(34),在白光照射下,所述品红色光阻块(31)、青色光阻块(32)、黄色光阻块(33)、及透明光阻块(34)分别透射出品红色、青色、黄色、及白色光。
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