[发明专利]一种在锆合金基体表面制备包含h‑Zr3O相的致密氧化锆涂层的方法

摘要

本发明公开了一种在锆合金基体表面制备包含h‑Zr3O相的致密氧化锆涂层的方法，属于锆合金表面改性技术领域。方法包括以下步骤1)采用提拉法将液态的线性聚碳硅烷涂覆于锆合金基体表面；2)于Ar气氛中加热升温至线性聚碳硅烷的固化温度，保温处理；3)继续加热升温至涂层制备温度，再次保温处理；4)冷却至室温，在锆合金基体表面制得包含h‑Zr3O相的致密氧化锆涂层。该方法制备的涂层与基体之间为化学结合，结合性能良好。同时该方法工艺简单，灵活，易于工业化生产。

主权项

一种在锆合金基体表面制备包含h‑Zr3O相的致密氧化锆涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：1)采用提拉法将液态的线性聚碳硅烷涂覆于锆合金基体表面；2)于Ar气氛中加热升温至线性聚碳硅烷的固化温度，保温处理；3)继续加热升温至涂层制备温度，再次保温处理；4)冷却至室温，在锆合金基体表面制得包含h‑Zr3O相的致密氧化锆涂层；所述线性聚碳硅烷的含氧量为10％。