[发明专利]一种真空锁系统及其对基片的处理方法

摘要

一种真空锁系统及其对基片的处理方法，真空锁系统包含腔室主体、设置在腔室主体内的基片转移支撑组件和基片升降组件，腔室主体包含垂直堆叠设置的处理腔和基片转移腔，处理腔对基片进行等离子体处理，基片转移腔可选择性地连接至大气环境或真空处理环境，基片转移支撑组件包含基片支撑装置和基片旋转装置，基片支撑装置上的盘用于放置基片，基片旋转装置实现基片在相邻盘之间的转移，基片升降组件以可升降的方式设置在腔室主体中，带动基片在处理腔和基片转移腔之间移动。本发明可以快速有效地实现多个基片的同时搬送，减轻了机械手的搬送压力，提高了工作效率，增加了产量。

主权项

1.一种真空锁系统，其特征在于，包含腔室主体、设置在腔室主体内的基片转移支撑组件和基片升降组件；所述的腔室主体包含处理腔（11）和基片转移腔（12）；处理腔（11）垂直堆叠在基片转移腔（12）的上部，处理腔（11）的底部具有与基片转移腔（12）连通的开口，该处理腔（11）用于对置于其中的基片（4）进行等离子体处理；基片转移腔（12）可选择性地连接至大气环境或真空处理环境，用于实现大气环境与基片转移腔（12）之间，或者真空处理环境与基片转移腔（12）之间的基片交换转移；所述的基片转移支撑组件包含基片支撑装置（101）和基片旋转装置（102）；所述的基片支撑装置（101）上包含一个位于处理腔（11）下方的可升降盘（105）、设置在可升降盘（105）一侧的至少一个大气侧固定盘（108）、以及设置在可升降盘（105）另一侧的至少一个真空侧固定盘（107），基片支撑装置（101）上的盘用于放置基片；所述的基片旋转装置（102）包含固定在基片支撑装置（101）上的旋转轴（1021）和连接旋转轴（1021）的若干旋转臂（1022），所述的旋转臂（1022）可沿旋转轴（1021）升降，还可绕旋转轴（1021）旋转，实现基片在相邻盘之间的转移；所述的基片升降组件以可升降的方式设置在腔室主体中，该基片升降组件包含设置在可升降盘（105）下方的隔离板（104）和固定在隔离板（104）的下方的顶升销（103）；所述的隔离板（104）的尺寸大于可升降盘（105）的尺寸，在隔离板（104）与处理腔（11）的接触面上设置有密封圈（106）；所述的顶升销（103）驱动隔离板（104）和可升降盘（105）在第一位置和第二位置之间移动；所述的第一位置是指可升降盘（105）位于处理腔（11）内，隔离板（104）将处理腔（11）的底部开口密封；所述的第二位置是指可升降盘（105）位于基片转移腔（12）内，。