[发明专利]一种彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置有效

专利信息
申请号: 201510364313.X 申请日: 2015-06-26
公开(公告)号: CN104880862B 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 周永山;李京鹏;谢振宇 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 柴亮,张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置,属于显示技术领域,其可解决现有的彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置中在对取向层进行紫外光照取向时,在取向层之前制备的有机材料功能层发生降解、并逐步释放到液晶层中产生异物亮点的问题。本发明的彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置,通过在形成取向层之前对彩膜基板出光侧的功能层进行第一次紫外光辐照和加热处理的步骤,能够使功能层中有机材料由于紫外照射产生的分解物挥发、从而去除,不会在涂覆取向层后、在辐照取向时受到紫外辐照在阵列基板和彩膜基板对盒后逐步释放到液晶层中形成异物亮点、从而影响显示面板的显示品质。
搜索关键词: 一种 彩膜基板 制备 方法 显示 面板 显示装置
【主权项】:
一种彩膜基板的制备方法,其特征在于,包括:对在衬底上通过构图工艺依次形成的出光侧的功能层依次进行第一次紫外光辐照和加热处理的步骤,用于去除所述功能层中有机材料由于紫外照射产生的分解物;在所述功能层上形成取向层的步骤;对所述取向层进行第二次紫外光辐照进行取向的步骤;所述第一次紫外光辐照的照度大于等于所述第二次紫外光辐照的照度。
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