[发明专利]一种彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置

说明书

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置。

背景技术

近年来，随着数字电视的普及，传统“阴极射线显像管显示器由于其数字化困难，以及体积大，重量大，有辐射等缺点，已经出现了被新一代显示技术取代的趋势，代表性的显示技术有等离子显示、有机电激光显示、液晶显示等，其中液晶显示由于具有重量轻、体积薄、无辐射、低耗电、显示效果好等优点已经开始大量的普及，成为主流产品。

液晶显示面板包括阵列基板和彩膜基板以及设置在陈列基板和彩膜基板之间的液晶层；背光源发出的光从阵列基板侧入射，通过阵列基板控制液晶层的偏转后选择性的将光透过、经过彩膜基板后合成相应颜色像素的光。

在制备液晶显示面板是通常需要将阵列基板和彩膜基板进行对盒，从而将液晶层密封在阵列基板和彩膜基板之间。但是，由于液晶层需要预先取向，因此在彩膜基板的入光侧(靠近液晶层的一侧)需要形成取向层，取向层的取向一般采用摩擦取向，但光照配向法具有取向简单的优势，发展势头迅猛，大有彻底替换常规摩擦取向的趋势。

目前常用光照配向法有光降解、光异构、光聚合型等方式，其中，光降解型取向层的应用较为广泛。但是由于彩膜出光侧的功能层制备完成后，上述光降解型取向层是涂覆在彩膜基板的出入光侧功能层上，由于彩膜基板的出入光侧功能层多数都是采用有机材料制备的，包括对紫外光敏感的易分解基团；

在对光降解型取向层进行光照配向时，这些对紫外光敏感的易分解基团也会发生降解，但由于光降解型取向层的覆盖无法及时释放出来，在后续彩膜基板和阵列基板对盒后，逐步释放进入到液晶层中形成异物亮点、严重的影响了画面的品质。

发明内容

本发明的目的是解决现有技术的彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置中在对取向层进行紫外光照取向时，在取向层之前制备的有机材料功能层发生降解、并逐步释放到液晶层中产生异物亮点的问题。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种彩膜基板的制备方法，包括：

对在衬底上通过构图工艺依次形成的出光侧的功能层进行第一次紫外光辐照和加热处理的步骤，用于去除所述功能层中有机材料由于紫外照射产生的分解物；

在所述功能层上形成取向层的步骤；

对所述取向层进行第二次紫外光辐照进行取向的步骤。

优选的，所述功能层包括：彩膜层以及与所述彩膜层同层设置的黑矩阵层；及在设置所述彩膜层上依次设置的平坦化层、对盒支撑层。

优选的，所述第一次紫外光辐照和第二次紫外光辐照的紫外光的波长相同。

优选的，所述第一次紫外光辐照和第二次紫外光辐照的紫外光的波长范围为150-350nm。

优选的，所述第一次紫外光辐照的照度大于等于所述第二次紫外光辐照的照度。

优选的，所述第二次紫外光辐照的照度范围为200-1000勒克斯。

优选的，所述加热处理的温度范围为200-250℃。

优选的，所述加热处理的加热时间范围为10-60min。

优选的，还包括对经过取向的取向层进行烘干的步骤。

优选的，所述烘干的温度小于所述加热处理的温度。

优选的，所述的第一次紫外光辐照采用第一紫外光源；所述第二次紫外光辐照采用能发射线性偏振光的第二紫外光源。

本发明的另一个目的还包括提供一种显示面板，包括彩膜基板，所述彩膜基板是采用上述的彩膜基板的制备方法制备的。

本发明的另一个目的还包括提供一种显示装置，包括上述的显示面板。

本发明的彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置，通过在形成取向层之前对彩膜基板出光侧的功能层进行第一次紫外光辐照和加热处理的步骤，能够使功能层中有机材料由于紫外照射产生的分解物挥发、从而去除，不会在涂覆取向层后、在辐照取向时受到紫外辐照在阵列基板和彩膜基板对盒后逐步释放到液晶层中形成异物亮点、从而影响显示面板的显示品质。

附图说明

图1为本发明实施例1中形成出光侧的功能层后彩膜基板的结构示意图。

图2为本发明实施例1中对彩膜基板的进行第一次紫外光辐照的结构示意图。

图3为本发明实施例1中对取向层紫外光辐照取向时的彩膜基板的结构示意图。

其中：

1.衬底；2.黑矩阵层；3.彩膜层；4.平坦化层；5.对盒支撑层；6.加热板；7.取向层。

具体实施方式