[发明专利]一种彩膜基板的制备方法、显示面板、显示装置有效
| 申请号： | 201510364313.X | 申请日： | 2015-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN104880862B | 公开（公告）日： | 2018-03-16 |
| 发明（设计）人： | 周永山;李京鹏;谢振宇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 柴亮,张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：
对在衬底上通过构图工艺依次形成的出光侧的功能层依次进行第一次紫外光辐照和加热处理的步骤，用于去除所述功能层中有机材料由于紫外照射产生的分解物；
在所述功能层上形成取向层的步骤；
对所述取向层进行第二次紫外光辐照进行取向的步骤；
所述第一次紫外光辐照的照度大于等于所述第二次紫外光辐照的照度。
2.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述功能层包括：彩膜层以及与所述彩膜层同层设置的黑矩阵层；及在设置所述彩膜层上依次设置的平坦化层、对盒支撑层。
3.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一次紫外光辐照和第二次紫外光辐照的紫外光的波长相同。
4.如权利要求3所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第一次紫外光辐照和第二次紫外光辐照的紫外光的波长范围为150-350nm。
5.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述第二次紫外光辐照的照度范围为200-1000勒克斯。
6.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述加热处理的温度范围为200-250℃。
7.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述加热处理的加热时间范围为10-60min。
8.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，还包括对经过取向的取向层进行烘干的步骤。
9.如权利要求8所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述烘干的温度小于所述加热处理的温度。
10.如权利要求1所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述的第一次紫外光辐照采用第一紫外光源；所述第二次紫外光辐照采用能发射线性偏振光的第二紫外光源。
11.一种显示面板，包括彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板是采用如权利要求1-10任一项彩膜基板的制备方法制备的。
12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求11所述的显示面板。
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