[发明专利]气相沉积膜设备用腔室回填气体分散装置

摘要

气相沉积膜设备用腔室回填气体分散装置，为铲形结构，其前端处于气相沉积膜设备的反应腔室内，本装置下表面有小孔与反应腔室内与过渡腔室之间的衬底传递通道下表面的惰性气体通入孔联通，在铲形的圆弧一侧均布气孔与小孔联通。本发明可以使进入腔室的惰性气体按照装置上表面的若干气孔流出，起到均匀气流的作用。通过此装置上表面若干气孔流出的气体，根据气孔排布的方式，可以形成不同形状，相对衬底不同位置的气帘。阻挡沉积时反应腔室通入的反应源向衬底传递通道逸散。此装置可以填充部分衬底传递通道的体积，减少腔室真空体积。

主权项

气相沉积膜设备用腔室回填气体分散装置，气特征在于：为铲形结构，其前端处于气相沉积膜设备的反应腔室内，本装置下表面有小孔与反应腔室内与过渡腔室之间的衬底传递通道下表面的惰性气体通入孔联通，在铲形的圆弧一侧均布气孔与小孔联通。