[发明专利]非易失性半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 201510084282.2 申请日: 2015-02-16
公开(公告)号: CN105989886B 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: 荒川贤一 申请(专利权)人: 华邦电子股份有限公司
主分类号: G11C16/14 分类号: G11C16/14;G11C16/24
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马雯雯;臧建明
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种非易失性半导体存储装置,其用于抑制构成位线选择电路的低电压晶体管的击穿。在P阱内,形成与非NAND串单元(NU)以及构成位线选择电路的晶体管(BLSe、BLSo、BIASe、BIASo)。在擦除动作时,将晶体管(BLSe、BLSo、BIASe、BIASo)设为浮动状态,当对P阱施加擦除电压时,晶体管(BLSe、BLSo、BIASe、BIASo)升压。当从P阱使擦除电压放电时,晶体管(BLSe、BLSo、BIASe、BIASo)的栅极通过放电电路(410)连接于基准电位,栅极电压以追随P阱电压的方式而放电。
搜索关键词: 非易失性 半导体 存储 装置
【主权项】:
1.一种半导体存储装置,其特征在于,包括:存储单元阵列,形成有多个与非串,所述与非串是可电性重写的存储单元串联连接而成;擦除部件,擦除所述存储单元阵列的所选择的区块内的存储单元;以及位线选择电路,选择分别与所述与非串连接的位线,构成所述位线选择电路的至少1个位线选择晶体管形成在阱内,所述阱形成存储单元,所述擦除部件包括:第1部件,对所选择的区块的阱施加擦除电压;第2部件,将所选择的区块的阱内形成的所述至少1个位线选择晶体管设为浮动状态;以及第3部件,在使所选择的区块的阱的电压放电时,使所述至少1个位线选择晶体管的栅极放电至基准电位。
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