[发明专利]一种高导电率低反射率金属网格的制作方法及其制品有效
| 申请号： | 201510062665.X | 申请日： | 2015-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN104615304B | 公开（公告）日： | 2018-01-26 |
| 发明（设计）人： | 林杰;侯则良;王维纲 | 申请（专利权）人： | 福建省诺希科技园发展有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 福州市鼓楼区鼎兴专利代理事务所(普通合伙)35217 | 代理人： | 傅契克 |
| 地址： | 350300 福建省福州市福清市融侨经济开发区*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高导电率低反射率金属网格的制作方法，采用涂布光阻层、压印、电浆蚀刻、镀金属网格材料、清洗的加工工艺，其光阻层厚度为20~60微米，光阻层为两层蚀刻速率不同的光阻层叠加而成，且，上层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率大于下层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率；电浆蚀刻条件为电浆功率为2000~3000W，蚀刻时间为2~30分钟。本发明不仅可加工出线宽低于40微米的金属网格，并且，适用于金、银、铜、铝等所有低电阻值金属材料的金属网格的制备。另外，本发明所制得的上宽下窄的金属网格具有反射率低、导电率高的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 导电 反射率 金属 网格 制作方法 及其 制品 | ||
【主权项】：
一种高导电率低反射率金属网格的制作方法，包括以下步骤：(1)在透明基材上涂布光阻层，光阻层厚度为20～60微米，光阻层为两层蚀刻速率不同的光阻层叠加而成；且，上层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率大于下层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率；(2)采用底部带有电路图案凸起的压印模板对光阻层进行压印，拔出压印模板后，在光阻层内形成电路图案沟槽；(3)对压印后的光阻层进行电浆蚀刻，露出透明基材，其中，电浆蚀刻条件为：电浆功率为2000～3000W，蚀刻时间为2～30分钟，得到上宽下窄的金属网格沟槽；(4)采用现有的镀膜技术将金属网格沟槽内镀满金属网格材料，形成呈电路图案形状分布的金属网格；(5)最后采用光阻剥离液将光阻层溶出，并采用清洗剂进行清洗，得到金属网格。
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