[发明专利]一种基于光场的深度估计方法有效
申请号: | 201510040975.1 | 申请日: | 2015-01-27 |
公开(公告)号: | CN104598744B | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
发明(设计)人: | 王立春;樊东灵;孔德慧;尹宝才 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | G06T7/50 | 分类号: | G06T7/50 |
代理公司: | 北京中北知识产权代理有限公司11253 | 代理人: | 冯梦洪 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于光场的深度估计方法,其能够解决初始深度可靠性问题、能量优化过平滑问题。包括步骤(1)初始深度估计;(2)检测可计算像素;(3)基于水平和垂直方向光场的深度计算;(4)深度信息融合;(5)深度信息传播;(6)重复步骤(3)‑(5),直到当前分辨率的EPI上所有Me值为1的置信像素都得到计算或在传播中得到深度值;(7)将低分辨率下计算得到的深度值逐层复制到高分辨率图像,直到最高分辨率图像中所有像素都有深度值。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 深度 估计 方法 | ||
【主权项】:
一种基于光场的深度估计方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)初始深度估计:通过公式(3)、(4)计算得到视差的初值d0:d0=Jxx‑Jyy (3)其中Gσ是尺度为σ的高斯平滑算子,Sx、Sy为是尺度为ρ的梯度算子;(2)检测可计算像素:边缘置信系数Ce通过公式(5)获得:其中N(x,s)是像素(x,s)的一维邻域像素集合,E(x,s)表示像素(x,s)的光线辐射值,所有系数Ce构成一个二值模板Me,Ce阈值大于0.02则模板对应位置取值1,否则取值0,其中值为1表示对应像素进行深度估计运算;(3)基于水平和垂直方向光场的深度计算,对EPI中参数为的扫描线逐点计算Ce值得到模板选择中值为1的像素进行深度计算:通过公式(11)获得EPI面上像素和(y,t*)的最终深度值其中(x′,y′)为视点下像素7*7邻域窗口上的像素,D(x′,y′)为其对应的深度值,E(x′,y′)是它的光线辐射值,Me(x′,y′)是其对应二值模版值;(4)深度信息融合:通过公式(14)获得最终深度值其中是水平3D光场下深度dt对应的可信评分系数,) 是垂直3D光场下深度ds对应的可信评分系数;(5)深度信息传播:将最终深度值d(x,y)保存在线段元组其中m=1/d,表示公式(9)所求的(x,y)辐射均值,对经过像素点(x,y)且斜率为m的线段上的点(x′,s′),判断是否成立,ε为指定的相似程度,对使得上式成立的像素(x′,s′)赋以深度值d其中R(x″,d)为像素(x″,s)的光线颜色值集合,通过改进的mean‑shift算法求得作为像素(x″,s)的光线辐射均值;(6)重复步骤(3)‑(5),直到当前分辨率的EPI上所有Me值为1的置信像素都得到计算或在传播中得到深度值;(7)将低分辨率下计算得到的深度值逐层复制到高分辨率图像,直到最高分辨率图像中所有像素都有深度值。
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