[发明专利]一种二维原子层厚度ZnO单晶纳米片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201510024107.4 申请日: 2015-01-16
公开(公告)号: CN105839189B 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 孟祥敏;王磊;黄兴;夏静;黄奔;朱丹丹 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C30B29/64 分类号: C30B29/64;C30B29/16;C30B25/00
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 张文祎
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种二维原子层厚度ZnO单晶纳米片,所述原子层厚度的ZnO纳米片是采用热蒸发法制备获得,相比于其它的ZnO纳米片,本发明的二维原子层厚度ZnO单晶纳米片厚度更薄、结晶性更好,更便于剥离使用。本发明还公开了二维原子层厚度ZnO单晶纳米片的制备方法,该方法包括以下步骤:(1)将锌粉、衬底放入管式炉中;(2)打开机械泵,对管式炉抽真空,充入压缩空气;(3)设定升温程序,反应后自然降温;(4)取出样品,衬底上生长了原子层厚度的ZnO纳米片。该方法制备步骤简单、耗时少、重复性高。 1
搜索关键词: 单晶纳米片 二维原子 层厚度 纳米片 制备 原子层 衬底 炉抽真空 升温程序 压缩空气 自然降温 管式炉 机械泵 结晶性 热蒸发 对管 放入 锌粉 耗时 剥离 取出 生长
【主权项】:
1.一种二维原子层厚度ZnO单晶纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)取锌粉放入容器中,然后将容器放在管式炉的加热区;2)将衬底放在锌粉正上方;3)管式炉抽真空,充入压缩空气;4)管式炉升温,待反应结束后使管式炉自然降温;5)取出产物,衬底上生长了大面积的原子层厚度的ZnO纳米片;所述ZnO单晶纳米片厚度为0.5nm‑2nm。
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