[发明专利]阻挡层叠层、用于制造阻挡层叠层的方法以及超高阻挡层与抗反射系统有效
| 申请号： | 201480078901.0 | 申请日： | 2014-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN106415873B | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | H-G·洛茨;N·莫里森;T·斯托利 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L51/52 | 分类号： | H01L51/52 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种阻挡层叠层。阻挡层叠层(10、20、30、40)包括依序布置的第一层(11)、第二层(12)、第三层(13)和第四层(14)。第一层(11)和第三层(13)具有至少1.9的折射率，并且第二层(12)和第四层(14)具有小于1.7的折射率。层(11至14)中的每一层都具有至少70nm的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 阻挡 层叠 用于 制造 方法 以及 超高 反射 系统 | ||
【主权项】：
一种阻挡层叠层，所述阻挡层叠层包括：依序布置的第一层、第二层、第三层和第四层，其特征在于所述第一层与所述第三层具有至少1.9的折射率，其特征在于所述第二层与所述第四层具有小于1.7的折射率，并且其特征在于所述层中的每一层都具有至少70nm的厚度，其特征在于所述阻挡层叠层的奇数层包括聚合物材料，和/或其特征在于所述阻挡层叠层的偶数层包括聚合物材料。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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