[发明专利]阻挡层叠层、用于制造阻挡层叠层的方法以及超高阻挡层与抗反射系统有效
申请号: | 201480078901.0 | 申请日: | 2014-05-16 |
公开(公告)号: | CN106415873B | 公开(公告)日: | 2018-02-16 |
发明(设计)人: | H-G·洛茨;N·莫里森;T·斯托利 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阻挡 层叠 用于 制造 方法 以及 超高 反射 系统 | ||
技术领域
本公开的实施例关于阻挡层叠层、用于制造阻挡层叠层的方法以及超高(ultra-high)阻挡层与抗反射系统。
背景技术
当有机发光器件(Organic light emitting devices,OLED)暴露至水蒸汽或氧气时,会遭受输出降低或过早失效。若干阻挡层系统已用于保护OLED器件免受此类水蒸汽或氧气的影响。例如,由于玻璃无弹性,因此当使用玻璃来封装OLED器件时,OLED器件的结构稳定性遭损坏。
需要一种克服上述方面中的至少一些方面的阻挡系统,例如,在基板(诸如,弹性聚合物基板)上的阻挡系统。特别是需要一种相比常规结构具有增强的光学性能的阻挡系统。
发明内容
鉴于上述内容,提供一种阻挡层叠层、一种用于制造阻挡层叠层的方法以及超高阻挡层和抗反射系统。通过权利要求书、说明书和所附附图,本公开的进一步的方面、优点和特征可显而易见。
根据本公开的一方面,提供一种阻挡层叠层。阻挡层叠层包括依序布置的第一层、第二层、第三层和第四层。第一层与第三层具有至少1.9的折射率,并且第二层与第四层具有小于1.7的折射率。所述层中的每一层都具有至少70nm的厚度。
根据本公开的另一方面,提供用于制造阻挡层叠层的方法。所述方法包括以下步骤:在基板上交替地沉积第一层材料与第二层材料以形成至少四层,其中第一层材料具有至少1.9的折射率,其中第二层材料具有小于1.7的折射率,并且其中所述层中的每一层都具有至少70nm的厚度。
根据本公开的更进一步的方面,提供超高阻挡层和抗反射系统。超高阻挡层和抗反射系统包括基板以及在所述基板上方的层叠层。层叠层包括依序布置的第一层、第二层、第三层和第四层。第一层与第三层具有至少1.9的折射率,并且第二层与第四层具有小于1.7的折射率。所述层中的每一层都具有至少70nm的厚度。
实施例也针对用于实行所公开的方法的设备,并且包括用于执行每一个所述方法步骤的设备部件。这些方法步骤可通过硬件组件的方式、由合适的软件编程的计算机、通过这两者的任何组合或以任何其他方法来执行。再者,根据本公开的实施例也是针对所述设备的操作方法。这包括用于执行设备的每一个功能的方法步骤。
附图说明
因此,为了可详细地理解本公开的上述特征的方式,可参考实施例具体描述上文简要概述的本公开。附图关于本公开的实施例,并且在下文中进行描述:
图1A-C示出根据本文中所述的实施例的阻挡层叠层的剖面图;
图2示出根据本文中所述的进一步的实施例的阻挡层叠层的剖面图;
图3示出根据本文中所述的实施例的阻挡层叠层的反射率的曲线图;
图4示出根据本文中所述的实施例的用于制造阻挡层叠层的沉积设备的示意图;以及
图5示出根据本文中所述的实施例的用于制造阻挡层叠层的方法的流程图。
具体实施方式
现在将详细地参照本公开的各种实施例,在附图中阐释这些实施例的一个或多个示例。在以下对于附图的描述中,相同的元件符号指示相同的元件。一般而言,仅描述相对于个别实施例的不同之处。每一个示例以解释本公开的方式来提供,并且不旨在作为对本公开的限制。此外,阐释或描述为一个实施例的部分的特征可用于其他实施例或可与其他实施例一同使用,以产生更进一步的实施例。本说明书旨在包括此类修改与变型。
层叠层可用于光学应用中(例如,对OLED的保护),然而它们会减小特别是在可见光谱中的透过率,并且会产生不期望的颜色。本公开通过提供具有组合的阻挡和抗反射性质的阻挡层叠层来克服此缺点。根据本文中所述的实施例的阻挡层叠层可具有色中性(color neutrality),所述色中性提供阻挡层叠层的改善的光学特性。
虽然到目前为止已提到OLED应用,但是本公开的阻挡层叠层也可用在不同的应用中。作为示例,本公开的阻挡层叠层可用在包装领域中,例如,对需要高氧气保护的食物(例如,新鲜的面食、切成薄片的肉、干燥的水果或点心)的包装。阻挡层叠层可提供气体阻挡与透明的性质以提供产品的可见性。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择