[发明专利]用于批处理的倾斜板及其使用方法

摘要

提供一种用于处理多个基板的基板处理腔室与方法，所述基板处理腔室一般包括气体分配组件、基座组件与气体转向器，所述基座组件用于沿着邻近气体分配组件的每一个的路径旋转基板，气体转向器用于改变处理腔室中的气体流动的角度。

主权项

一种处理腔室，包括：圆形气体分配组件，所述圆形气体分配组件定位在所述处理腔室内，所述气体分配组件包括在所述气体分配组件的正面的多个细长气体口，所述多个细长气体口从所述气体分配组件的内径区域向外径区域延伸，所述多个气体口包括反应性气体口、净化气体口以及真空口，所述反应性气体口用于将反应性气体传送到所述处理腔室，所述净化气体口用于将净化气体传送到所述处理腔室，所述真空口用于从所述处理腔室排空气体；基座组件，所述基座组件在所述处理腔室内以绕旋转轴沿基本上圆形的路径旋转至少一个基板，所述基座组件具有由内周边缘与外周边缘界定的顶表面，所述基座组件定位在所述气体分配组件下方以使得所述基座组件的顶表面面对所述气体分配组件的正面；以及转向器，所述转向器定位成改变所述反应性气体的流动的方向，以使得当基板在所述基座组件上时，所述反应性气体相对于所述基板表面以小于约90°的角度接触所述基板的表面。