[发明专利]层叠体、有机半导体制造用套组及有机半导体制造用光阻组合物有效
申请号: | 201480058649.7 | 申请日: | 2014-10-29 |
公开(公告)号: | CN105683835B | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 水谷一良;岩井悠;小山一郎;加持义贵 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/038 | 分类号: | G03F7/038;B32B27/00;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/11;H01L21/027;H01L21/3065 |
代理公司: | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 刘文海<国际申请>=PCT/JP2014 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是提供一种可形成良好的有机半导体图案的层叠体及用以制造该层叠体的有机半导体制造用套组、以及用于有机半导体制造用套组的有机半导体制造用光阻组合物。本发明为一种层叠体,其具有有机半导体膜、有机半导体膜上的保护膜、以及保护膜上的光阻膜,光阻膜包含感光性树脂组合物,该感光性树脂组合物含有产生生成酸的pKa为‑1以下的有机酸的光酸产生剂(A)、以及与自光酸产生剂产生的酸反应而对于含有有机溶剂的显影液的溶解速度减小的树脂(B)。 | ||
搜索关键词: | 层叠 有机半导体 制造 用套组 用光 组合 | ||
【主权项】:
1.一种层叠体,所述层叠体具有有机半导体膜、所述有机半导体膜上的保护膜、以及所述保护膜上的光阻膜,所述光阻膜包含感光性树脂组合物,所述感光性树脂组合物含有产生生成酸的pKa为-1以下的有机酸的光酸产生剂、以及与自所述光酸产生剂产生的酸反应而对于含有有机溶剂的显影液的溶解速度减小的树脂,/n所述感光性树脂组合物凭借自光酸产生剂产生的生成酸而极性变化,对于包含有机溶剂的显影液的溶解速度减小。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480058649.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。