[发明专利]薄膜沉积装置与薄膜沉积方法

摘要

本发明提供一种薄膜沉积装置与薄膜沉积方法。薄膜沉积装置包括腔室，其内部具有预设空间；基板支撑部件，配置于腔室内并且基板配置于其上；以及气体供应部件，包括至少一个用以供应处理气体至基板的供应通道，以及含气体活化单元用以活化处理气体的活化通道。在此，活化通道的底部具有开口部，同时活化通道的上部经密封。本发明的薄膜沉积装置能够改善薄膜品质、避免基板损害且藉由原子层沉积增加产能。

主权项

一种薄膜沉积装置，包括：腔室，具有预设的内部空间；基板支撑部件，配置于所述腔室内并且支撑基板；以及气体供应装置，具有至少一个供应通道及活化通道，所述供应通道用以供应处理气体至所述基板，所述活化通道含有气体活化单元用以活化所述处理气体，其中所述活化通道具有打开的下部与密封的上部，且由所述气体活化单元活化的所述处理气体通过所述活化通道而供应至所述基板上，使所述基板与所述气体供应装置间未活化的所述处理气体活化。