[实用新型]用于制备低介电常数材料的等离子增强化学气相沉积装置有效
申请号: | 201420164948.6 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN203774246U | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 孙旭辉;夏雨健 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 马明渡;王健 |
地址: | 215123 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开一种用于制备低介电常数材料的等离子增强化学气相沉积装置,包括炉体、位于炉体一侧的液体源喷射机构,炉体前半段缠绕有感应线圈,此感应线圈依次连接到13.36MHz射频电源和匹配器,液体源喷射机构包括耐压不锈钢釜、第一耐压混气罐和第二耐压混气罐,第一耐压混气罐另一端与耐压不锈钢釜一端通过安装有顶针阀的管路连接,耐压不锈钢釜另一端通过安装有顶针阀、第一质量流量计的管路连接到第一喷嘴;第二耐压混气罐一端连接安装有第三进气管、第四进气管,第二耐压混气罐另一端连接到第二喷嘴。本实用新型结构简单、操作便捷、制造及使用费用低,实现了将不易于控制流量及速率的液态液体源转化为易于控制流量及速率的气体流,从而便捷精确调控薄膜介电常数值。 | ||
搜索关键词: | 用于 制备 介电常数 材料 等离子 增强 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种用于制备低介电常数材料的等离子增强化学气相沉积装置,其特征在于:包括两端密封安装有端盖(2)的炉体(1)、位于炉体(1)一侧的液体源喷射机构(3),所述炉体(1)前半段缠绕有感应线圈(4),此感应线圈(4)依次连接到13.36MHz射频电源(5)和匹配器(6),所述液体源喷射机构(3)包括耐压不锈钢釜(7)、第一耐压混气罐(8)和第二耐压混气罐(9),此第一耐压混气罐(8)一端连接均安装有第一质量流量计(101)的第一进气管(111)、第二进气管(112),第一耐压混气罐(8)另一端与耐压不锈钢釜(7)一端通过安装有顶针阀(12)的管路连接,耐压不锈钢釜(7)另一端通过安装有顶针阀(12)、第一质量流量计(101)的管路连接到第一喷嘴(13);所述第二耐压混气罐(9)一端连接安装有第二质量流量计(102)的第三进气管(141)、第四进气管,所述第二耐压混气罐(9)另一端连接到第二喷嘴(15),所述第一喷嘴(13)、第二喷嘴(15)密封地插入所述炉体一端的端盖从而嵌入炉体内;一真空泵(17)位于炉体(1)另一侧,连接所述真空泵(17)一端的管路密封地插入炉体(1)另一端的端盖(2)内,一手动挡板阀(19)。
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