[实用新型]用于真空交换仓的减压防尘装置及真空交换仓有效
申请号: | 201420103374.1 | 申请日: | 2014-03-07 |
公开(公告)号: | CN203800026U | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 顾烨;木建秀 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于真空交换仓的减压防尘装置以及真空交换仓,所述减压防尘装置包括进气单元、托盘以及挡板;所述进气单元的一端与真空交换仓的进气管道连接,另一端伸入到所述托盘中;所述挡板设置在托盘开口端上,所述挡板上设置有挡板过滤单元。气体经进气单元流入托盘,并向上经挡板上的挡板过滤单元后流出,气体在减压防尘装置内迂回流动进入到真空交换仓,可减少气体对晶圆的冲击,并且气体中夹杂的颗粒经过沉降以及挡板过滤单元的过滤后,落到晶圆上的机会大大减低,有效防止出现异物不良缺陷。 | ||
搜索关键词: | 用于 真空 交换 减压 防尘 装置 | ||
【主权项】:
一种用于真空交换仓的减压防尘装置,其特征在于,包括进气单元、托盘以及挡板;所述进气单元的一端与所述真空交换仓的进气管道连接,另一端伸入到所述托盘中;所述挡板设置在所述托盘的开口端上,所述挡板上设置有挡板过滤单元。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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