[实用新型]一种提升器和干法刻蚀系统有效

专利信息
申请号: 201420040302.7 申请日: 2014-01-22
公开(公告)号: CN203721695U 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 蒋会刚;肖红玺;刘华锋;谢海征;高建剑;蔡志光 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/67
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李迪
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种提升器,除了包括本体和底座,还包括:支撑杆、支撑头、定位环、弹性件和接触环;本体安装在底座上;支撑杆穿过本体,支撑杆上端设置支撑头,支撑头的下端与本体的顶部之间有活动空间,支撑杆穿过设置于底座上的定位环,且支撑杆的底部设置有接触环,定位环与接触环之间设置有弹性件。上述提升器由于在本体中间设置有支撑杆,由于定位环和接触环之间设置有弹性件,支撑杆以及支撑杆上端的支撑头未被压缩时,支撑头与本体之间具有一定活动空间;当支撑头受到基板的重力而下降时,定位环随着支撑杆向下运动而位置下降,弹性件被压缩,接触环的位置也下降,能及时检测出基板的偏移或损坏,避免基板和下部电极受损坏。
搜索关键词: 一种 提升 刻蚀 系统
【主权项】:
一种提升器,包括本体和底座,其特征在于,还包括:支撑杆、支撑头、定位环、弹簧和接触环; 所述本体安装在所述底座上; 所述支撑杆穿过所述本体,所述支撑杆上端设置所述支撑头,所述支撑头的下端与所述本体的顶部之间有活动空间,所述支撑杆穿过设置于所述底座上的定位环,且所述支撑杆的底部设置有接触环,所述定位环与所述接触环之间设置有弹性件。 
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420040302.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top