[发明专利]压印模板的制作方法在审
| 申请号： | 201410731598.1 | 申请日： | 2014-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN105652590A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 谢秋实 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种压印模板的制作方法，其包括以下步骤：掩膜光刻步骤，在采用硅材料制作的母版上涂平一层光刻胶掩膜，并采用光刻工艺在光刻胶掩膜上形成所需的图形；图形修饰步骤，用于减小图形的顶宽；母版刻蚀步骤，将图形复制在母版上；模板制作步骤，利用具有图形的母版制作压印模板。本发明提供的压印模板的制作方法，其可以在母版上形成“上窄下宽”的光刻胶图形，从而利用该母版制作而成的压印模板可以采用纳米压印的方式在光刻胶掩膜上获得“上窄下宽”的光刻胶图形形貌。 | ||
| 搜索关键词： | 压印 模板 制作方法 | ||
【主权项】：
一种压印模板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：掩膜光刻步骤，在采用硅材料制作的母版上涂平一层光刻胶掩膜，并采用光刻工艺在所述光刻胶掩膜上形成所需的图形；图形修饰步骤，用于减小所述图形的顶宽；母版刻蚀步骤，将所述图形复制在所述母版上；模板制作步骤，利用具有所述图形的母版制作压印模板。
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