[发明专利]一种测量光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置及方法在审
| 申请号： | 201410632668.8 | 申请日： | 2014-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN105652598A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 陈南曙 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G01B11/26 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供位于一直线上的均匀分布的若干光斑至一掩模版上，若干所述光斑排列方向与所述掩模版两条平行的边缘垂直，与所述掩模版另两条平行的边缘平行；一光电探测器，用于探测若干所述光斑经所述掩模版反射后的垂向度值；一处理器，用于根据若干所述光斑垂向度值计算掩模台的倾斜偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测量 光刻 机掩模台 倾斜度 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种测量光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供位于一直线上的均匀分布的若干光斑至一掩模版上，若干所述光斑排列方向与所述掩模版两条平行的边缘垂直，与所述掩模版另两条平行的边缘平行；一光电探测器，用于探测若干所述光斑经所述掩模版反射后的垂向度值；一处理器，用于根据若干所述光斑垂向度值计算掩模台的倾斜偏差。
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