[发明专利]一种测量光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置及方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种集成电路装备制造领域,尤其涉及一种测量光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置及方法。

背景技术

扫描光刻机掩模台在水平方向运动过程中，其垂向的执行装置由于掩模台大理石加工精度的限制，或者因为采用干涉仪测量的反射镜等并非能够保持与理想面平行，存在形貌起伏。因此在其沿着水平向运动的扫描曝光过程中，其承载的掩模相对于投影物镜的最佳物面有一定的高度及倾斜偏差。由于这种情况造成的误差项，称之为掩模台扫描倾斜与扫描翻滚。所以为达到最佳的曝光效果，必须测量出该偏差量，在水平向的扫描运动中补偿掩模台高度与倾斜的偏差，从而保证掩模在扫描过程中始终保持在最佳物面。

当前的专利技术CN201010114203.5(名称：一种测量扫描光刻机中掩模台扫描倾斜的方法)，该发明方法在扫描曝光后，用对准的方法测量最佳物面的高度偏差，计算得到掩模台的扫描倾斜。或者是专利CN200910045594.7(名称：掩模台扫描倾斜的测量方法及装置)，该方法使用掩模版上的多列对准标记测量，将对准标记空间像的垂向位置转换到物面上，计算得到掩模台扫描倾斜。

发明内容

本发明的目的在于提供一种测量光刻机掩模台倾斜度和垂向度的方法和装置，应用于扫描曝光系统中。

为了实现上述发明目的，本发明公开一种测量光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供位于一直线上的均匀分布的若干光斑至一掩模版上，若干所述光斑排列方向与所述掩模版两条平行的边缘垂直，与所述掩模版另两条平行的边缘平行；一光电探测器，用于探测若干所述光斑经所述掩模版反射后的垂向度值；一处理器，用于根据若干所述光斑垂向度值计算掩模台的倾斜偏差。

更进一步地，所述光源及所述光电探测器分别位于一投影物镜的两侧，所述光源、所述掩模版或所述掩模台，及所述光电探测器三者位于所述三者形成的三角形的三个顶点。

更进一步地，所述光源及所述光电探测器同时位于所述掩模版的上方或下方。

更进一步地，其特征在于，所述掩模台可以水平方向运动时，若干所述光斑排列方向与所述掩模台扫描方向垂直，用于扫描倾斜及扫描翻滚。

更进一步地，所述倾斜偏差根据所述掩模台扫描倾斜一阶楔形、二阶楔形、扫描翻滚获得。

更进一步地，该掩模台扫描倾斜一阶楔形w_l、二阶楔形w_q、扫描翻滚w_r的计算公式为：