[发明专利]一种测量光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置及方法

权利要求书

1.一种测量光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，包括：

一光源，用于提供位于一直线上的均匀分布的若干光斑至一掩模版上，若干 所述光斑排列方向与所述掩模版两条平行的边缘垂直，与所述掩模版另两条平行 的边缘平行；

一光电探测器，用于探测若干所述光斑经所述掩模版反射后的垂向度值；

一处理器，用于根据若干所述光斑垂向度值计算掩模台的倾斜偏差。

2.如权利要求1所述的测量掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，所述 光源及所述光电探测器分别位于一投影物镜的两侧，所述光源、所述掩模版或所 述掩模台，及所述光电探测器三者位于所述三者形成的三角形的三个顶点。

3.如权利要求2所述的测量掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，所述 光源及所述光电探测器同时位于所述掩模版的上方或下方。

4.如权利要求1所述的测量掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，所述 掩模台可以水平方向运动时，若干所述光斑排列方向与所述掩模台扫描方向垂直， 用于扫描倾斜及扫描翻滚。

5.如权利要求1所述的测量掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，所述 倾斜偏差根据所述掩模台扫描倾斜一阶楔形、二阶楔形、扫描翻滚获得。

6.如权利要5所述的测量掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，所述掩 模台扫描倾斜一阶楔形w_l、二阶楔形w_q、扫描翻滚w_r的计算公式为：

y1y12y2y22......ynyn2wlwq+cc...c=zM1zM2...zMn,]]>

y1y2...yn(wr)+cc...c=Ry1Ry2...Ryn;]]>其中Z_M1,Z_M2。。。Z_Mn是各个掩模台扫描方向位置处掩模 台的整体高度位置，y₁,y₂…y_n是掩模台位置值，c为常数项Z₀、Ry₀。