[发明专利]一种铜锌锡硫硒(CZTSSe)薄膜的制备工艺在审
申请号: | 201410618905.5 | 申请日: | 2014-11-06 |
公开(公告)号: | CN105576076A | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
发明(设计)人: | 陈玉梅 | 申请(专利权)人: | 陈玉梅 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 110179 辽宁省沈阳市浑南新*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种铜锌锡硫硒(CZTSSe)薄膜的制备工艺。本发明薄膜在500℃的硒化退火温度下能够形成具有单一锌黄锡矿结构、结晶程度较好的薄膜;而且具有贫铜的成分,随着温度的升高,Se元素含量增加最后趋于平稳,而S元素含量先减少后有增加趋势。本发明具体包括如下步骤:(1)先在反应容器中充入一定的惰性气体,使反应容器保持一定的气压,然后开始升温;(2)在280℃下反应1h,之后经离心洗涤,将纳米颗粒从反应溶液中分离出来,在惰性环境下,烘干,分别得到两种不同条件下的纳米颗粒;(3)将制得的CZTS纳米晶粒溶于一定量的己硫醇中制成纳米浆溶液,采用滴涂的方法在钠钙玻璃衬底上制得CZTS薄膜,并进行硒化退火处理得到CZTSSe薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜锌锡硫硒 cztsse 薄膜 制备 工艺 | ||
【主权项】:
一种铜锌锡硫硒(CZTSSe)薄膜的制备工艺,其特征在于包括如下步骤:(1)先在反应容器中充入一定的惰性气体,使反应容器保持一定的气压,然后开始升温;(2)在280℃下反应1h,之后经离心洗涤,将纳米颗粒从反应溶液中分离出来,在惰性环境下,烘干,分别得到两种不同条件下的纳米颗粒;(3)将制得的CZTS纳米晶粒溶于一定量的己硫醇中制成纳米浆溶液,采用滴涂的方法在钠钙玻璃衬底上制得CZTS薄膜,并进行硒化退火处理得到CZTSSe薄膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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