[发明专利]一种有机薄膜晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410607350.4 申请日: 2014-10-31
公开(公告)号: CN104409633A 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 葛·瑞金;宋怡静;杨昕;黄维;侯晓纯 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/10;H01L51/30;H01L51/40
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 许方
地址: 210000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种有机薄膜晶体管及其制备方法,包括重掺杂硅片、修饰层十八烷基三氯硅烷OTS、修饰层聚苯乙烯PS、源、漏电极层、P3HT有机半导体活性层,在绝缘层与电极层间设置修饰层,所述的修饰层包含十八烷基三氯硅烷OTS层和聚苯乙烯PS层。步骤一,选重掺杂硅片为衬底,重掺杂硅作为栅电极,热氧化生成的二氧化硅作为绝缘层;步骤二,在绝缘层上用汽化的方式制备十八烷基三氯硅烷OTS修饰层;步骤三,在十八烷基三氯硅烷OTS修饰层上旋涂一层聚苯乙烯PS修饰层;步骤四,在聚苯乙烯PS修饰层上通过掩膜蒸镀方式制备源、漏电极;步骤五,在电极上用喷墨打印的方法制备有机半导体活性层。
搜索关键词: 一种 有机 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
一种有机薄膜晶体管,包括重掺杂硅片、修饰层十八烷基三氯硅烷OTS、修饰层聚苯乙烯PS、源、漏电极层、P3HT有机半导体活性层,其特征在于:在绝缘层与电极层间设置修饰层,所述的修饰层包含十八烷基三氯硅烷OTS层和聚苯乙烯PS层。
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