[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法有效
申请号: | 201410593866.8 | 申请日: | 2010-11-16 |
公开(公告)号: | CN104391429B | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 切通优子;成冈岳彦;西村幸生;浅野裕介;川上峰规;中岛浩光 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/004;C08F220/22;G03F7/20 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 左嘉勋;顾晋伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明的目的在于,提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法;所述放射线敏感性树脂组合物含有:[A]具有选自分别以下式(1‑1)和(1‑2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量%以上的聚合物,[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量%的聚合物,以及[C]放射线敏感性酸产生剂。 |
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搜索关键词: | 放射线 敏感性 树脂 组合 聚合物 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有:[A]具有以下式(1‑2)表示的结构单元(Ⅰ)、且氟原子含量在5质量%以上的聚合物,[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量%的聚合物,以及[C]放射线敏感性酸产生剂;
式(1‑2)中,R1为氢原子、碳原子数为1~4的烷基或者具有卤素原子的碳原子数为1~4的烷基;式(1‑2)中,R5为烷基;R6为烷基、烷氧基、酰基或者酰氧基;R6多个存在时,多个R6相同或不同;R6的氢原子的一部分或者全部可以被取代;e为1或者2;f为0~5的整数;[A]聚合物进一步具有以下式(2‑2)表示的结构单元(Ⅱ);
式(2‑2)中,R1为氢原子、碳原子数为1~4的烷基或者具有卤素原子的碳原子数为1~4的烷基;式(2‑2)中,R7为(g+1)价的连接基团;R8为氢原子或者1价的有机基团;R8多个存在时,多个R8相同或不同;Rf2和Rf3各自独立地为氢原子、氟原子或者碳原子数1~30的氟代烃基;其中,Rf2和Rf3两者不同时为氢原子;Rf2或Rf3多个存在时,多个Rf2和Rf3彼此相同或不同;g为1~3的整数,[A]聚合物进一步具有包含选自分别以下式(4‑1)和(4‑2)表示的多个基团中的至少1种基团的结构单元;
式(4‑1)中,R41是被氟原子取代的碳原子数为1~10的烃基。
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