[发明专利]苯深度脱噻吩的钌基吸附剂及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201410579044.4 申请日: 2014-10-24
公开(公告)号: CN104307464A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 国海光;戴连欣;孙兵 申请(专利权)人: 上海迅凯新材料科技有限公司
主分类号: B01J20/06 分类号: B01J20/06;B01J20/28;B01J20/08;B01J20/18;C07C15/04;C07C7/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 郭辉
地址: 200437 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了用于苯深度脱噻吩的钌基吸附剂及其制备方法和应用。本发明所述钌基吸附剂包括负载在载体上的金属钌,所述载体是选自氧化铝、氧化硅、氧化钛、分子筛以及它们任意两种或多种的混合物;其制备方法为:采用成型多孔颗粒状载体,载体预先经过改性处理,通过浸渍或者喷涂方法负载预先调制的含钌化合物浆料,加入无机碱溶液进行沉淀转型,经过液相还原和/或气相还原得到钌基吸附剂。经本发明新型钌基吸附剂处理后的苯可满足苯加氢制环己烯过程中原料苯中的噻吩含量质量要求。与现有技术相比,本发明钌基吸附剂脱噻吩精度高、硫容高、价格低、生产工艺及设备简单、易于工业化,具有良好的应用前景及巨大的经济效益。
搜索关键词: 深度 噻吩 吸附剂 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种用于苯深度脱噻吩的钌基吸附剂,该钌基吸附剂包括负载在载体上的金属钌,其中,所述载体是选自氧化铝、氧化硅、氧化钛、分子筛以及它们任意两种或多种的混合物;所述载体的比表面积70‑800m2/g,孔容0.3‑1.1ml/g,堆密度0.4‑0.8g/ml。
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