[发明专利]蚀刻液组合物及蚀刻方法在审
| 申请号： | 201410571102.9 | 申请日： | 2014-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN104611700A | 公开（公告）日： | 2015-05-13 |
| 发明（设计）人： | 黄若涵;吴光耀;黄宜琤;罗致远;卢厚德 | 申请（专利权）人： | 达兴材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18;C23F1/30 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 秦剑 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种蚀刻液组合物，用于蚀刻含铜及含钼的多层薄膜，蚀刻液组合物包含过氧化氢、第一有机酸或其盐类、第二有机酸或其盐类以及醇胺化合物。第一有机酸与铜的螯合常数大于、等于0且小于6，基于蚀刻液组合物为100重量百分比，第一有机酸添加比例为5.5重量百分比至17.5重量百分比。第二有机酸与铜的螯合常数大于、等于6且小于18.5。醇胺化合物具有一个以上的胺基与一个以上的羟基。藉此蚀刻液组合物蚀刻前述含铜及含钼的多层薄膜，有助于减少金属残留。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种蚀刻液组合物，用于蚀刻含铜及含钼的多层薄膜，其中基于该蚀刻液组合物为100重量百分比，该蚀刻液组合物包含：过氧化氢；第一有机酸或其盐类，该第一有机酸与铜的螯合常数大于、等于0且小于6，该第一有机酸添加比例为5.5重量百分比至17.5重量百分比；第二有机酸或其盐类，该第二有机酸与铜的螯合常数大于、等于6且小于18.5；以及醇胺化合物，该醇胺化合物具有一个以上的胺基与一个以上的羟基。
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