[发明专利]一种防止晶圆背面污染的机构

摘要

本发明涉及半导体行业晶片处理设备，具体地说是一种防止晶圆背面污染的机构，包括吸盘、扇板、旋转电机、背喷装置、背喷架、背喷盘及安装板，背喷盘安装在安装板上，吸盘位于背喷盘的上方，并与安装在安装板上的旋转电机相连，由旋转电机驱动旋转，吸盘的上表面吸附晶圆、下表面沿圆周方向均布有多个扇板；背喷盘上设有背喷架，背喷装置可移动地安装在背喷架上、对晶圆背面边缘进行冲洗，扇板随吸盘旋转，形成阻挡液体流至晶圆背面的风流。本发明吸盘的下表面安装了扇板，吸盘在旋转时，扇板可在吸盘下方形成自中心向外的风流，风流对晶圆边缘处的液体有引流作用，可防止晶圆处理过程中的各类化学液对晶圆背面的污染，提高产品晶圆的良率。

主权项

一种防止晶圆背面污染的机构，其特征在于：包括吸盘(1)、扇板(2)、旋转电机(4)、背喷装置(6)、背喷架(7)、背喷盘(8)及安装板(10)，其中背喷盘(8)安装在所述安装板(10)上，所述吸盘(1)位于该背喷盘(8)的上方，并与安装在安装板(10)上的旋转电机(4)相连，由所述旋转电机(4)驱动旋转，所述吸盘(1)的上表面吸附晶圆、下表面沿圆周方向均匀分布有多个扇板(2)；所述背喷盘(8)上设有背喷架(7)，所述背喷装置(6)可移动地安装在背喷架(7)上、对所述晶圆背面边缘进行冲洗，所述扇板(2)随吸盘(1)旋转，形成阻挡液体流至晶圆背面的风流。