[发明专利]一种防止晶圆背面污染的机构有效

专利信息
申请号: 201410486561.7 申请日: 2014-09-22
公开(公告)号: CN105513994B 公开(公告)日: 2018-02-02
发明(设计)人: 尹宁 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/687
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司21002 代理人: 白振宇
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 防止 背面 污染 机构
【权利要求书】:

1.一种防止晶圆背面污染的机构,其特征在于:包括吸盘(1)、扇板(2)、旋转电机(4)、背喷装置(6)、背喷架(7)、背喷盘(8)及安装板(10),其中背喷盘(8)安装在所述安装板(10)上,所述吸盘(1)位于该背喷盘(8)的上方,并与安装在安装板(10)上的旋转电机(4)相连,由所述旋转电机(4)驱动旋转,所述吸盘(1)的上表面吸附晶圆、下表面沿圆周方向均匀分布有多个扇板(2);所述背喷盘(8)上设有背喷架(7),所述背喷装置(6)可移动地安装在背喷架(7)上、对所述晶圆背面边缘进行冲洗,所述扇板(2)随吸盘(1)旋转,形成阻挡液体流至晶圆背面的风流。

2.按权利要求1所述防止晶圆背面污染的机构,其特征在于:所述吸盘(1)的下表面沿圆周方向均布有多个第一凹槽(11),每个第一凹槽(11)内均容置有扇板(2)。

3.按权利要求2所述防止晶圆背面污染的机构,其特征在于:每个所述扇板(2)的上部均容置于一个第一凹槽(11)内,下部的内侧均设有第二凹槽(12),各所述扇板(2)上的第二凹槽(12)内套设有弹性固定环(3)。

4.按权利要求1、2或3所述防止晶圆背面污染的机构,其特征在于:所述背喷盘(8)为圆盘,通过背喷盘支柱(9)固定在所述安装板(10)上。

5.按权利要求4所述防止晶圆背面污染的机构,其特征在于:所述背喷架(7)为多个,沿背喷盘(8)的圆周方向均布,每个所述背喷架(7)上均安装有沿背喷盘(8)径向往复移动的背喷装置(6)。

6.按权利要求1、2或3所述防止晶圆背面污染的机构,其特征在于:所述旋转电机(4)通过电机安装板(5)固定在安装板(10)上,所述吸盘(1)下表面的吸盘轴由背喷盘(8)中间开设的通孔穿过、与所述旋转电机(4)的输出轴相连。

7.按权利要求1、2或3所述防止晶圆背面污染的机构,其特征在于:所述吸盘(1)与背喷盘(8)的轴向中心线共线。

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