[发明专利]全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法及装置有效
| 申请号： | 201410456502.5 | 申请日： | 2014-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN104191370B | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 廖德锋;张清华;赵世杰;谢瑞清;陈贤华;张浩宇;钟波;王健;许乔 | 申请（专利权）人： | 成都精密光学工程研究中心 |
| 主分类号： | B24B53/02 | 分类号： | B24B53/02 |
| 代理公司： | 成都希盛知识产权代理有限公司51226 | 代理人： | 蒲敏 |
| 地址： | 610041 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供一种全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法及装置。全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法，该方法包括以下步骤1)检测抛光盘的表面形状误差并确定修正装置的定点去除函数；2)设定覆盖整个抛光盘表面的修整路径；3)计算驻留时间；4)将步骤2)和3)得到的修整路径及路径上各点的驻留时间输入数控加工系统中，对抛光盘表面进行修整加工。本发明通过控制修正装置在抛光盘表面各处的驻留时间来修正抛光盘的表面形状误差，与传统上采用大尺寸校正板的盘面形状修正方法相比，该方法具有修正控制确定性好、修正精度高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 口径 抛光 表面 形状 修正 方法 装置 | ||
【主权项】：
全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：1)检测抛光盘的表面形状误差并确定修正装置的定点去除函数；2)设定覆盖整个抛光盘表面的修整路径；3)计算驻留时间；4)将步骤2)和3)得到的修整路径及路径上各点的驻留时间输入数控加工系统中，对抛光盘表面进行修整加工。
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