[发明专利]全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法及装置有效
申请号: | 201410456502.5 | 申请日: | 2014-09-09 |
公开(公告)号: | CN104191370B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 廖德锋;张清华;赵世杰;谢瑞清;陈贤华;张浩宇;钟波;王健;许乔 | 申请(专利权)人: | 成都精密光学工程研究中心 |
主分类号: | B24B53/02 | 分类号: | B24B53/02 |
代理公司: | 成都希盛知识产权代理有限公司51226 | 代理人: | 蒲敏 |
地址: | 610041 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 口径 抛光 表面 形状 修正 方法 装置 | ||
技术领域
本发明属于光学加工领域,尤其涉及一种全口径抛光中抛光盘表面形状的小工具修正方法。
背景技术
大口径平面光学元件的抛光传统上主要采用环抛工艺,环抛加工中沥青盘具有的良好流动性使其能够与工件表面较好地贴合,然而,加工过程中工件对沥青盘的磨损和挤压作用造成盘面形状发生变化和平面度降低,从而不利于工件面形的控制。目前,环抛中主要采用大尺寸的校正板来改善沥青盘的平面度以及得到理想的盘面形状。校正板一般采用具有较高硬度和热稳定性的微晶、陶瓷等材料,加工时放在沥青盘的环带上,对盘面形状进行校正。一般来说,在沥青盘的半径方向上外推校正盘会使盘面形状变凸,元件面形往凹面变化,而内推校正盘则使盘面形状变凹,元件面形往凸面变化。基于这一原理即可根据元件的面形误差特征调整工艺参数进行修形。这种采用大尺寸校正板的盘面形状修正方法,主要依靠工人长期的加工实践调整校正板在盘面半径方向的位置来修正盘面的形状误差,工艺控制的确定性较差,盘面形状的修正精度难以得到提高。此外,大尺寸校正板难以修正盘面沿圆周方向的形状误差。
大口径平面光学元件的另一抛光方法是基于聚氨酯盘的平面快速抛光技术。聚氨酯盘具有较高的硬度和良好的耐磨性,抛光时可以承受较高的速度和压力,并且盘面形状能够较长时间保持稳定。然而,聚氨酯盘使用前不同区域厚度不均造成盘面形状较差,以及长时间高速抛光造成盘面的磨损会使盘面形状恶化,从而需要对盘面形状进行修正。目前,聚氨酯抛光主要采用大尺寸的表面固结有金刚石颗粒的金属基修整盘对盘面进行修整,改善聚氨酯垫的抛光特性和修正盘面的形状。长期的加工实践表明,大尺寸金刚石修整盘修整后的聚氨酯盘呈凹形表面,难以获得平整的表面。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法及装置。
本发明解决技术问题所采用的技术方案是:全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法,该方法包括以下步骤:
1)检测抛光盘的表面形状误差并确定修正装置的定点去除函数;
2)设定覆盖整个抛光盘表面的修整路径;
3)计算驻留时间;
4)将步骤2)和3)得到的修整路径及路径上各点的驻留时间输入数控加工系统中,对抛光盘表面进行修整加工。
进一步的,步骤1)所述修正装置的定点去除函数是通过以下方法得到的:首先检测抛光盘的表面形状误差,采用修正装置对抛光盘表面进行定点修整,然后检测抛光盘定点修整后的表面形状误差,抛光盘定点修整前的表面形状误差减去定点修整后的表面形状误差得到修正装置的定点去除函数。
进一步的,步骤2)所述修整路径采用螺旋线路径。
进一步的,步骤3)所述驻留时间是根据步骤1)所得到的修正装置的定点去除函数和抛光盘的表面形状误差,确定在修整路径上各点的驻留时间。
实现上述的抛光盘表面形状修正方法的装置,包括主轴连接架,所述主轴连接架下端设置有偏心调节块,在所述偏心调节块下端设置有球头顶针,在所述球头顶针下端设置有小工具,在所述小工具的上表面设置有球槽,所述球槽与所述球头顶针配合连接。
进一步的,所述偏心调节块的旋转轴与主轴连接架的旋转轴不重合。
进一步的,所述偏心调节块通过螺钉固定在所述主轴连接架上,所述偏心调节块用于调节小工具的旋转偏心距。
进一步的,所述偏心调节块采用T型偏心调节块,并通过两个螺钉与所述主轴连接架连接,所述两个螺钉的螺孔中心连线与所述主轴连接架的旋转轴相交。
进一步的,所述两个螺钉的螺孔中心连线的中点位于所述主轴连接架的旋转轴上。
进一步的,所述主轴连接架旋转带动球头顶针旋转,从而带动小工具绕主轴连接架的旋转轴做旋转运动,所述小工具在抛光盘的摩擦作用下绕自身轴线作旋转运动。
本发明的有益效果是:本发明通过控制修正装置在抛光盘表面各处的驻留时间来修正抛光盘的表面形状误差,与传统上采用大尺寸校正板的盘面形状修正方法相比,该方法具有修正控制确定性好、修正精度高的优点。同时,本发明的修正装置结构简单,可方便连接于常用的抛光机床的工件轴上,通过工件轴的旋转带动修正装置的小工具的运动,有利于抛光盘表面形状误差的修正。
附图说明
图1是本发明的装置的结构示意图。
图2是图1的主视图。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都精密光学工程研究中心,未经成都精密光学工程研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410456502.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。