[发明专利]全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法及装置有效

专利信息
申请号: 201410456502.5 申请日: 2014-09-09
公开(公告)号: CN104191370B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 廖德锋;张清华;赵世杰;谢瑞清;陈贤华;张浩宇;钟波;王健;许乔 申请(专利权)人: 成都精密光学工程研究中心
主分类号: B24B53/02 分类号: B24B53/02
代理公司: 成都希盛知识产权代理有限公司51226 代理人: 蒲敏
地址: 610041 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 口径 抛光 表面 形状 修正 方法 装置
【权利要求书】:

1.全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

1)检测抛光盘的表面形状误差并确定修正装置的定点去除函数;

2)设定覆盖整个抛光盘表面的修整路径;

3)计算驻留时间;

4)将步骤2)和3)得到的修整路径及路径上各点的驻留时间输入数控加工系统中,对抛光盘表面进行修整加工。

2.根据权利要求1所述的全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法,其特征在于,步骤1)所述修正装置的定点去除函数是通过以下方法得到的:首先检测抛光盘的表面形状误差,采用修正装置对抛光盘表面进行定点修整,然后检测抛光盘定点修整后的表面形状误差,抛光盘定点修整前的表面形状误差减去定点修整后的表面形状误差得到修正装置的定点去除函数。

3.根据权利要求1所述的全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法,其特征在于,步骤2)所述修整路径采用螺旋线路径。

4.根据权利要求1所述的全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法,其特征在于,步骤3)所述驻留时间是根据步骤1)所得到的修正装置的定点去除函数和抛光盘的表面形状误差,确定在修整路径上各点的驻留时间。

5.实现权利要求1所述的全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法的装置,其特征在于:包括主轴连接架(1),所述主轴连接架(1)下端设置有偏心调节块(2),在所述偏心调节块(2)下端设置有球头顶针(4),在所述球头顶针(4)下端设置有小工具(5),在所述小工具(5)的上表面设置有球槽(6),所述球槽(6)与所述球头顶针(4)配合连接。

6.根据权利要求5所述的全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法的装置,其特征在于:所述偏心调节块(2)的旋转轴与主轴连接架(1)的旋转轴不重合。

7.根据权利要求5所述的全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法的装置,其特征在于:所述偏心调节块(2)通过螺钉(3)固定在所述主轴连接架(1)上,所述偏心调节块(2)用于调节小工具(5)的旋转偏心距。

8.根据权利要求5所述的全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法的装置,其特征在于:所述偏心调节块(2)采用T型偏心调节块,并通过两个螺钉与所述主轴连接架(1)连接,所述两个螺钉的螺孔中心连线与所述主轴连接架(1)的旋转轴相交。

9.根据权利要求8所述的全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法的装置,其特征在于:所述两个螺钉的螺孔中心连线的中点位于所述主轴连接架(1)的旋转轴上。

10.根据权利要求5所述的全口径抛光中抛光盘表面形状的修正方法的装置,其特征在于:所述主轴连接架(1)旋转带动球头顶针(4)旋转,从而带动小工具(5)绕主轴连接架(1)的旋转轴做旋转运动,所述小工具(5)在抛光盘的摩擦作用下绕自身轴线作旋转运动。

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