[发明专利]对不合格硅片的处理方法

摘要

本发明公开了一种对不合格硅片处理的方法，包括：获取不合格硅片；采用预设浓度的氢氟酸溶液浸泡不合格硅片；采用表面腐蚀液，在第一预设时间和第一预设温度的条件下，腐蚀不合格硅片；采用预设体积比例的氢氧化钾溶液清洗不合格硅片；采用预设体积比例的氯化氢和氢氟酸溶液，在第二预设时间和第二预设温度的条件下，清洗不合格硅片；对不合格硅片进行扩散工艺，使不合格硅片的方阻在预设方阻范围内；对不合格硅片进行镀反射膜工艺，使不合格硅片的反射膜厚度在预设厚度范围内。采用本发明提供的技术方案，对在丝网印刷工艺前产生的不合格硅片进行处理后，可以再次使用制作太阳能电池片，避免了资源的浪费，提高了产品的生产合格率。

主权项

一种对不合格硅片的处理方法，用于处理在丝网印刷工艺前产生的不合格硅片，其特征在于，包括：获取不合格硅片；采用预设浓度的氢氟酸溶液浸泡所述不合格硅片；采用表面腐蚀液，在第一预设时间和第一预设温度的条件下，腐蚀所述不合格硅片；采用预设体积比例的氢氧化钾溶液清洗所述不合格硅片；采用预设体积比例的氯化氢和氢氟酸溶液，在第二预设时间和第二预设温度的条件下，清洗所述不合格硅片；对所述不合格硅片进行扩散工艺，使所述不合格硅片的方阻在预设方阻范围内；对所述不合格硅片进行镀减反射膜工艺，使所述不合格硅片的减反射膜厚度在预设厚度范围内。