[发明专利]一种透明衬底的四元发光二极管及其制备方法有效
申请号: | 201410404330.7 | 申请日: | 2014-08-15 |
公开(公告)号: | CN104157757B | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 蔡坤煌;杨恕帆;吴俊毅 | 申请(专利权)人: | 天津三安光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/00 |
代理公司: | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司12211 | 代理人: | 杨慧玲 |
地址: | 300384 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明提供一种透明衬底的四元发光二极管,包括AlGaInP‑LED外延片,将所述AlGaInP‑LED外延片的GaP层的表面进行粗化并将其作为键合面,在键合面上镀薄膜,然后将薄膜与透明衬底进行键合,最后去除GaAs衬底。本发明提出透明键合技术,可将透明基板以衬底转移技术取代吸光材质的GaAs衬底,增加LED芯片的出光率,避免了传统AlGaInP‑LED由于受材料本身和衬底的局限,导致外量子效率极低等问题;另外搭配切割道预先蚀刻的技术,避免外延层于切割过程回融或溅出,可增加发光效率并避免漏电风险。 | ||
搜索关键词: | 一种 透明 衬底 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种透明衬底的四元发光二极管的制备方法,其特征在于:所述四元发光二级管,包括AlGaInP‑LED外延片,将所述AlGaInP‑LED外延片的GaP层的表面进行粗化并将其作为键合面,在键合面上镀薄膜,然后将薄膜与透明衬底进行键合,最后去除GaAs衬底;其制备包括如下步骤,1)、将AlGaInP‑LED外延片的GaP层的表面进行粗化,并将其作为键合面,然后在键合面上镀薄膜;2)、对步骤1)中的键合面上的薄膜层的表面进行平坦化作业,薄膜表面的平坦度粗糙值要求至Ra<1nm,得到平坦化的LED片;3)、准备欲键合的透明衬底,将步骤2)得到的平坦化的LED片与透明衬底清洗干净后,放置于活化剂中,并搅拌5~10分钟,然后取出活化完成后的LED片与透明衬底;4)、将步骤3)中的活化完成后的LED片与透明衬底进行键结,再经过高温高压进行键合,得到键合后的半成品;5)、去除步骤4)中的半成品中的GaAs衬底,即完成LED片转换成透明衬底,得到具有透明衬底的LED片。
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